Determination of hydrogen absorption in Pd coated Al thin films

Alvaro Amador Jara; Azofeifa  Daniel E.; Neville Clark

doi:10.1016/S0040-6090(96)09493-X

Determination of hydrogen absorption in Pd coated Al thin films

Alvaro Amador Jara
, Azofeifa Daniel E.
, Neville Clark

Escuela de Física

Universidad de Costa Rica

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Abstract

Al films, 80–85 nm in thickness and 10–30 μΩ cm in resistivity, are coated with Pd (8–40 nm). The bilayer is exposed to a hydrogen atmosphere of up to 4.0 kPa. The hydrogen concentration is calculated from the frequency change in a quartz crystal microbalance and the electrical resistance of the Pd film, the Al film and the bilayer is measured as function of hydrogen pressure. Concentration and resistance measurements indicate that the Pd coating enables the Al films to absorb hydrogen from the gas phase.

Original language	English
Pages (from-to)	295-298
Number of pages	3
Journal	Thin Solid Films
Volume	300
Issue number	1-2
DOIs	https://doi.org/10.1016/S0040-6090(96)09493-X
State	Published - 24 Oct 1996

Access to Document

10.1016/S0040-6090(96)09493-X

https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S004060909609493XLicense: Unspecified

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abstract = "Las pel{\'i}culas de Al, de 80 a 85 nm de espesor y 10 a 30 μΩ cm de resistividad, est{\'a}n recubiertas con Pd (8 a 40 nm). La bicapa est{\'a} expuesta a una atm{\'o}sfera de hidr{\'o}geno de hasta 4,0 kPa. La concentraci{\'o}n de hidr{\'o}geno se calcula a partir del cambio de frecuencia en una microbalanza de cristal de cuarzo y la resistencia el{\'e}ctrica de la pel{\'i}cula de Pd, la pel{\'i}cula de Al y la bicapa se mide en funci{\'o}n de la presi{\'o}n del hidr{\'o}geno. Las mediciones de concentraci{\'o}n y resistencia indican que el recubrimiento de Pd permite que las pel{\'i}culas de Al absorban hidr{\'o}geno de la fase gaseosa.",

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TY - JOUR

T1 - Determination of hydrogen absorption in Pd coated Al thin films

AU - Amador Jara, Alvaro

AU - Daniel E., Azofeifa

AU - Clark, Neville

PY - 1996/10/24

Y1 - 1996/10/24

N2 - Las películas de Al, de 80 a 85 nm de espesor y 10 a 30 μΩ cm de resistividad, están recubiertas con Pd (8 a 40 nm). La bicapa está expuesta a una atmósfera de hidrógeno de hasta 4,0 kPa. La concentración de hidrógeno se calcula a partir del cambio de frecuencia en una microbalanza de cristal de cuarzo y la resistencia eléctrica de la película de Pd, la película de Al y la bicapa se mide en función de la presión del hidrógeno. Las mediciones de concentración y resistencia indican que el recubrimiento de Pd permite que las películas de Al absorban hidrógeno de la fase gaseosa.

AB - Las películas de Al, de 80 a 85 nm de espesor y 10 a 30 μΩ cm de resistividad, están recubiertas con Pd (8 a 40 nm). La bicapa está expuesta a una atmósfera de hidrógeno de hasta 4,0 kPa. La concentración de hidrógeno se calcula a partir del cambio de frecuencia en una microbalanza de cristal de cuarzo y la resistencia eléctrica de la película de Pd, la película de Al y la bicapa se mide en función de la presión del hidrógeno. Las mediciones de concentración y resistencia indican que el recubrimiento de Pd permite que las películas de Al absorban hidrógeno de la fase gaseosa.

U2 - 10.1016/S0040-6090(96)09493-X

DO - 10.1016/S0040-6090(96)09493-X

M3 - Artículo

VL - 300

SP - 295

EP - 298

JO - Thin Solid Films

JF - Thin Solid Films

IS - 1-2

ER -

Determination of hydrogen absorption in Pd coated Al thin films

Abstract

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